可就在 2025 年第三季度，一则消息打破了这份垄断：中国基于自由电子激光的 EUV 试产设备即将投入使用，不仅在功率稳定性、转换效率上远超 ASML 的方案，还彻底解决了困扰行业的锡污染难题。

架构 半导体 光学 垄断 光学绝地 2025-09-28 14:46  1